使用阴影，用户可以创建更具有深度和真实感的渲染图像。
渲染器可以通过阴影贴图或光线跟踪来生成阴影。阴影贴图阴影取决于渲染器在场景的预渲染阶段生成的位图。阴影贴图提供的边较柔和，并且需要的计算时间比光线跟踪阴影要少，但是精确较低。光线跟踪追踪从光源采样得到的光线的路径。光线被对象遮挡的地方将出现阴影。光线跟踪阴影具有更精确、更清晰的边，但需要的计算时间较多。
阴影贴图是生成具有柔和边界的阴影的唯一方法，但是它们不会显示透明或半透明对象投射的颜色。阴影贴图阴影比光线跟踪阴影的计算速度快。
下例显示了阴影贴图产生较柔和、精度较低的阴影（比光线跟踪阴影处理速度快）的方式。
在预渲染阶段，将创建一个阴影贴图位图。阴影质量可以通过增大或减小阴影贴图的尺寸来控制。默认的阴影贴图尺寸为 256 x 256 个像素。如果阴影显示过于粗糙，则增加贴图尺寸可以获得较好的质量。如果有穿透透明曲面（例如要投射其边框和竖棂阴影的多窗格窗口）的光线，则不应使用阴影贴图阴影。必须删除玻璃竖棂才能投射阴影。
光线跟踪阴影（与其他反射和折射的光线跟踪效果类似）通过跟踪从光源采样得到的光束或光线而产生。光线跟踪阴影比阴影贴图阴影更加精确。
下例表明，尽管光线跟踪的处理时间较长，但它产生的阴影更真实、更精确。
光线跟踪阴影有清晰的边和精确的轮廓；它们也可以透过透明或半透明对象传递颜色。因此，多窗格窗口的边框和竖棂的阴影将渲染。由于光线跟踪阴影在计算时不使用贴图，因此无需像使用阴影贴图阴影那样调整分辨率。
打开阴影时，可以选择三种阴影模式设置之一。可以将阴影模式设置为“简化”模式、“排序”模式或“线段”模式。
- 简化。渲染器以任意顺序调用阴影着色器。这是默认的阴影模式状态。
- 排序。渲染器以从对象到光源的顺序调用阴影着色器。
- 线段。渲染器沿从体积着色器到对象和光源之间的光线段的光线顺序调用阴影着色器。
要在模型中投射阴影，必须建立光源。光源需要添加到场景中，并且用户需要指定该光源是否投射阴影。对于在设置场景时要在视口中显示的阴影，用户需要打开视觉样式的阴影。如果希望阴影显示在渲染图像中，则用户需要打开阴影并在